공정 VOC의 복잡한 구성 및 배출 조건으로 인해 VOC를 함유한 배기 가스를 효율적이고 고도로 처리하기 위해서는 특정 작업 조건에서 배기 가스를 전처리해야 합니다. 배기 가스 전처리는 주로 VOCs 조성, 오염 물질 농도, 온도, 습도에 영향을 미치고 입자상 물질을 조정합니다.

"산업용 유기성 폐가스 흡착 방식 처리 공학 기술 사양(HJ 2026-2013)"은 처리 장치(흡착, 소각, 촉매 작용 등)로 유입되는 유기성 폐가스의 유기물 농도가 폭발 하한의 25%입니다. 배기가스 중 유기물의 농도가 폭발하한치의 25%보다 높을 경우 정화하기 전에 폭발하한치의 25%로 감소시켜야 합니다. 예를 들어 흡착농도(활성탄, 제올라이트 런너) + RTO, RCO 처리공정을 채택할 경우 탈착공정 중 폐가스 농도를 제어할 필요가 있다.

가황 공정의 배기 온도는 약 60-70°C입니다. 활성탄 흡착 및 저온 플라즈마를 처리에 사용하는 경우 온도를 40-50°C 이하로 낮출 필요가 있습니다. 물리적 흡착의 경우 온도가 낮을수록 흡착이 잘됩니다. 끓는점이 낮은 화합물의 경우 온도 효과가 특히 분명합니다.

흡착, 촉매 및 소각 장치의 경우 습도가 낮을수록 정화 효율이 높아집니다. 배기 가스의 상대 습도는 활성탄과 제올라이트 분자체의 흡착 성능에 큰 영향을 미칩니다. 배기 가스 제습의 주요 방법은 다음과 같습니다. 제습 및 제습(주로 스프레이 시스템용); 결로 및 제습; 가열 및 제습(활성탄과 같은 흡착제 물질의 흡착 능력 향상); 흡착 제습(제올라이트 로터가 있는 연속 제습 장치) ).

미세먼지 관리도 매우 중요합니다. 흡착장치에 유입되는 입자상 물질의 함량은 1mg/m3 미만이어야 하며, 소각로에 유입되는 입자상 물질의 함량은 10mg/m3 미만이어야 합니다. 저온 플라즈마, 광산화 및 생물학적 장치는 입자상 물질에 대한 요구 사항이 더 엄격합니다. 예를 들어, 페인트 미스트 입자는 점도가 높기 때문에 분무 폐가스를 정화하기 어렵고 건식 여과로 제거할 수 있습니다. 고무 제품 정제 공정의 폐가스는 고농도의 먼지를 포함하고 있으며, 이는 후속 VOC 처리 장비에 들어가기 전에 천 백을 통해 효율적으로 여과되어야 합니다. 입자 제거의 주요 방법은 다음과 같습니다. 기계적 여과 기술(와이어 메쉬 필터 요소, 필터 펠트, 필터 상자 등); 건식 고효율 여과 기술, 습식 여과 기술(벤츄리, 사이클론 타워 등), 정전 여과 기술.